产品概述
本系列 PI 膜碳化炉是高导热石墨材料生产的核心预处理设备。针对聚酰亚胺薄膜在碳化阶段产生的大量有机挥发分，设备采用了加强型水冷密封结构与分级焦油冷凝捕集装置。通过极佳的温场均匀性设计，确保石墨片在 950℃ 以内的排气过程均匀、稳定，为后续超高温石墨化工序打好基础。
核心应用优势
平整度控制： 优化的多区加热布局，配合 30 段微电脑控温曲线，实现缓慢升温脱焦，有效解决 PI 膜堆叠过程中的形变与起泡问题。
高效废气管理： 专用焦油捕集器配合大口径排气通道，能够实时冷凝并收集高浓度有机物，防止炉膛积碳与管路堵塞。
卓越密封性： 采用双层水冷法兰密封结构，耐挥发分腐蚀，确保长期在还原气氛下运行的气密性与安全性。
灵活定制化： 提供从 50L 实验型到 2000L 量产型等多种容积选择，支持按客户装料工艺定制内部料架结构。
技术参数表
| 参数项目 | 技术指标 |
|---|---|
| 工艺温度范围 | 400℃ 至 950℃（连续可调） |
| 废气处理系统 | 集成式焦油捕集器 + 尾气直排控制 |
| 控温精度 | ±0.1℃（智能 PID 调节） |
| 程序段数 | 30段曲线编程（支持阶梯式升降温） |
| 密封形式 | 水冷密封，防腐蚀密封材料 |
| 装料容积 | 50L / 200L / 500L / 1000L / 2000L（可选） |
冀公网安备13010402002588