无掩膜直写光刻

一、MLL系列紧凑型无掩膜直写光刻设备

产品介绍:

    MLL-C500/C900无模直写光刻设备是由合肥芯碁微电子装备有限公司自主研发生产的一款精巧型光刻设备，其功能灵活、体积小、性价比高，专为世界各大高校及研究所量身打造.

二、LDWV-T无掩模光直写光刻设备

产品简介：

    LDWV-T无掩模光直写光刻设备是由合肥芯微电子装备有限公司自主研发的一款高性能、高产能的光刻设备，可进行小批量、多品种的掩模版和微纳结构制作.

三、无掩模直写光刻设备

产品介绍:

    LDW-X6无掩模直写光刻设备是由合肥芯暑微电子装备有限公司自主研发生产的一款高端光刻设备，该设备可以满足130nm节点的掩模版制造需求，同时应用于多种微纳加工领域。

关于誉立

        广州誉立电子科技有限公司-西格玛光机一级代理商，专业光学平台厂家，主营教学科研实验室设备及提供产品研发设计辅助服务，我们配备了专业的工程师及销售人员，经过长期在各高等院校、高中职院校、大中型企业的扎根与服务，与广大用户建立起了良好的沟通渠道，拉近了服务距离，及时解决用户的需求与遇到的问题，赢得了广泛的赞誉及肯定，使公司获得越来越多的信任和支持。 

        公司主要经营产品包括光学隔振平台、刚性隔振平台、气浮隔振平台、光纤调芯位移台、调芯位移台、电控位移台、光纤光谱仪、拉曼光谱仪、显微物镜、空间光调制器等，产品热销广东广州、深圳、中山、东莞、湖南、湖北、广西等地。