FAS-1 低泡阴离子表活 硅片清洗 除硅粉除灰除垢 邦普

FAS-1是一款低泡阴离子表面活性剂，采用邦普化学窄分布技术合成。FAS-1对硅粉、碳灰等微小颗粒污垢的清洗力强，尤其是对硅粉的去污力，适用于工业清洗中对硅及金属等硬表面的除灰除垢。

产品性能

（1）FAS-1低泡沫，远低于常规阴离子表面活性剂

（2）FAS-1除灰除垢性能强，尤其对硅类粉末清洗性能强

（3）FAS-1有一定增溶效果，有助于提高体系稳定性

（4）FAS-1 耐碱性强，可用于强碱体系（在具体体系的耐碱度需要实验确定）

（5）FAS-1凝固点低，冬天使用方便

产品参数

应用领域

●不锈钢碱性除研磨液、铝合金研磨液清洗剂、金属切削液清洗剂

●太阳能硅片清洗剂、半导体晶圆清洗剂、光学玻璃磨粉清洗剂、PCB电路板清洗剂等除灰清洗剂