高纯纳米二氧化硅

一、产品概述

本产品为200nm-900nm高纯纳米二氧化硅（SiO₂），采用先进的气相合成、高温纯化及精/准粒径分级工艺制备，属于高纯度、窄粒径分布的非晶态纳米无机粉体。产品严格把控粒径区间，摒弃常规纳米二氧化硅粒径过小、易团聚、透光率不足的弊端，同时规避微米级二氧化硅比表面积低、改性效果差的短板，兼具纳米材料的高活性、高稳定性与微米粉体的高流动性、易分散性。产品纯度高、杂质含量低，化学性能稳定、绝缘性优异、光学性能优良，是光学材料、电子封装、精/密涂料、高/端复合材料、精/密陶瓷等领域的核心基础功能性填料，可根据客户需求定制200-900nm区间内任意精/准粒径规格及表面改性产品。

【基础信息】

中文名称：高纯纳米二氧化硅

英文名称：High Purity Nano Silicon Dioxide

简称：纳米白炭黑、高纯二氧化硅

CAS号：14808-60-7

外观：白色蓬松粉末、无杂质、无结块

粒径区间：200nm ~ 900nm（可定制D50精/准粒径）



二、产品核心优势

1. 超/高纯度，杂质可控

产品二氧化硅含量≥99.9%，高/端定制款可达99.99%，经ICP-MS精/密检测，重金属、碱金属、铁、氯等有害杂质总量低，金属不纯物严格受控，无游离杂质、无残留无机盐，满足电子级、光学级高/端材料的严苛用料标准，杜绝杂质引发的发黄、绝缘失效、老化加速等问题。

2. 粒径均匀，分布窄

通过高精度气流分级工艺筛选，200-900nm粒径区间集中度高，无超大颗粒、无超细粉尘，粒径偏差小，适配对填料粒径一致性要求高的精/密涂布、精/密封装、光学镀膜等工艺，可有效提升产品成型精度与性能稳定性。

3. 分散性优异，兼容性强

原生粉体团聚率低，无需复杂高速分散设备，可均匀分散于环氧树脂、聚氨酯、丙/烯/酸树脂、有机溶剂、水性体系等多种基材中，与各类有机、无机材料相容性佳，可根据需求提供亲水、疏水两种表面改性型号，适配不同体系加工需求。

4. 性能稳定，适配性广

具备优异的化学惰性，耐酸碱、耐腐蚀、不溶于水和常规有机溶剂；热稳定性极/佳，高温下不分解、不变形、热膨胀系数低；同时拥有优良的绝缘性、抗紫外、耐磨、增韧补强特性，可兼顾材料力学性能、光学性能与耐候性能提升。

5. 流动性好，加工性优

相较于超细纳米二氧化硅，本产品粉体蓬松度适中、流动性更强、吸油值可控，加工过程中不易结块、不易沉降，可有效改善物料加工流动性，降低生产粘度，提升成品平整度与成型效率。

三、核心技术参数

检测项目 技术指标 检测标准/说明

二氧化硅纯度（SiO₂） ≥99.9%（高/端款≥99.99%） ICP精/密检测

平均粒径（D50） 200nm-900nm（可定制） 激光粒度仪检测，分布均匀

粒径分布（D90） ≤1.2倍D50 窄分布，无大颗粒杂质

比表面积 15-80 m²/g（随粒径可调） BET法检测

白度 ≥98% 粉体洁白，无发黄发灰

含水率 ≤0.05% 极/低含水率，杜绝气泡缺陷

灼烧失重 ≤0.1% 无有机残留、无易挥发物质

重金属总量 ≤5ppm 符合电子级环保标准

碱金属含量（Na、K等） ≤10ppm 适配电子绝缘材料

外观状态 白色蓬松粉末、无结块、无黑点杂质 目视+显微检测

四、主要应用领域

1. 电子封装与半导体材料

适配IC芯片封装、LED封装胶、电子灌封胶、绝缘涂层等产品。凭借超/高纯度、低离子杂质、高绝缘性、低热膨胀系数，可有效提升封装材料的绝缘性能、耐高温性能和尺寸稳定性，防止电子器件漏电、老化，延长电子产品使用寿命。

2. 光学薄膜与光学涂层

用于光学PET膜、防眩光膜、增透膜、光学烤漆、镜头涂层等场景。200-900nm精/准粒径可实现均匀的漫散射效果，兼具高透光率与防眩光性能，同时具备抗紫外、耐黄变、耐磨抗刮特性，可大幅提升光学材料的清晰度与耐候性。

3. 高/端涂料与油墨

作为精/密涂料、丝印油墨、UV固化油墨的功能性填料，起到增稠、消光、防流挂、防沉降、耐磨补强的作用。粒径均匀可让涂层表面平整细腻，无颗粒瑕疵，同时提升涂层硬度、附着力和抗老化能力，适配高/端工业涂料、食品包装油墨、精/密印刷油墨。

4. 高分子复合材料改性

应用于环氧树脂、聚氨酯、塑料、橡胶、有机硅材料改性。可显著提升基材的拉伸强度、耐磨性能、抗冲击性能、耐高温及阻燃性能，同时降低材料收缩率，解决高分子材料易变形、不耐老化、硬度不足的痛点。

5. 精/密陶瓷与特种耐火材料

用于制备高纯特种陶瓷、蜂窝陶瓷、脱硝催化陶瓷、石英陶瓷等产品。高纯度、粒径均匀的特性可提升陶瓷坯体的致密度、烧结稳定性，降低烧结缺陷，提升成品耐高温、耐腐蚀、绝缘性能。

6. 其他领域

可用于高/端化妆品消光粉体、精/密抛光材料、吸附催化载体、有机硅溶胶制备、新能源隔膜涂层等场景，适配各类对粉体纯度、粒径、稳定性要求严苛的高/端制造领域。

五、产品型号规格（可定制）

为适配不同客户工艺需求，本产品提供区间标准型号及精/准定制型号，支持亲水/疏水改性：

标准型号：200-300nm、300-500nm、500-700nm、700-900nm

定制型号：可精/准定制D50=200nm、400nm、600nm、800nm、900nm单峰粒径产品

表面类型：亲水型（适配水性体系）、疏水型（适配油性、溶剂型体系）

六、包装、储存与使用说明

1. 包装规格

常规包装：25kg/袋（真空防潮包装，内置双层防护，杜绝受潮结块）；可根据客户需求定制5kg、25kg及吨包包装。

2. 储存条件

需存放于阴凉、干燥、通风的室内环境，远离潮湿、酸碱、高温热源；密封保存，开封后尽快使用，避免长期暴露在空气中吸潮、吸附杂质；保质期12个月，未开封状态下性能稳定无衰减。

3. 使用注意事项

投料时建议低速搅拌分散，搭配超声分散可实现极/致均匀效果；疏水改性产品无需活化，可直接溶于油性树脂、有机溶剂；亲水型适配水性体系，分散效率高，无团聚沉淀。作业时做好常规粉尘防护，符合安全生产标准。

七、产品优势总结

200nm-900nm高纯纳米二氧化硅是介于超细纳米与微米粉体之间的高性能功能性材料，平衡了纳米活性与微米加工性。超/高纯度保障高/端场景用料安全，窄粒径分布保证产品性能一致性，优异的分散性和兼容性适配多体系加工，可有效帮助客户提升产品品质、降低不良率、优化生产工艺，是光电、电子、新材料、精细化工等高/端制造领域的优选基础材料。