脉冲激光沉积系统 Pioneer 120 Advanced

产品简介
Neocera Pioneer 系列 PLD 系统— 基于经验的创新设计，利用PLD 开展了深入广泛的研究，建立了获得 zui 佳薄膜质量的临界参数，特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
• 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压（>100 Torr）下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能（压力范围可从额定初始压强到大气压）。这也有益于纳米粒子的生成。
• Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°，保持了激光密度在靶材上的 zui 大均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。
• 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵，消除油的回流对薄膜质量的影响，所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
• 我们的研究表明靶和基片的距离是获得 zui 佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离，以达到 zui 优的沉积条件。

技术参数
1、衬底尺寸：10mm x10mm到直径2英寸
2、沉积室：直径12英寸
3、衬底温度：zui 高850°C，辐射加热器，氧兼容
4、多目标传送带：6 × 1英寸或3 × 2英寸
5、质量流量控制器(s)：一个MFC氧气是标准的，更多的MFC是可选的
6、软件控制：Windows 7, Labview 2013
7、升级：RHEED, RF-DC溅射/ DC离子源，LAXS, IES，激光加热器

应用领域
脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition）是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD的独特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外，PLD是一种“ 数字” 技术，在纳米尺度上进行工艺控制（Å/pulse）。
• Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有丰富的经验
• Pioneer 系列PLD 系统是全球研发领域 zui 为广泛使用的商业化系统
• Neocera 不仅为客户提供 zui 基本的PLD系统，也提供完整的PLD实验室交钥匙方案