ADP/ADS系列2产品的四种型号可满足不同真空要求，环境清洁的工艺应用可选择LM型，轻型或中型应用要求可选择P型，H型可供苛刻要求的工艺环境选择。许多来自半导体工业的主要制造商已经选择这一产品，这一选择使他们大大缩短了计划外停工期，从而节约了运行成本，提高了利润率。

特点：

处理能力可靠性高

·宽交叉槽可容纳大量粉尘和颗粒

·准确而闭合的温控系统、高操作温度以及从进口到出口的气体温度的线性增长

·各级采取立式抽吸防止吹扫腔中粉尘聚集 

主要应用于半导体制造

·小巧：ADP/ADS系列2只有约390 mm宽

·洁净：阿尔卡特真空泵无摩擦无须油润滑，也就无粉尘污染的风险。

·安静：阿尔卡特真空泵所有型号均含一台静音装置，无须再安装外部消声装置。

· 兼容半导体S2 

价廉物美

·工作压强以及极限压强下低能耗

·ADP/ADS系列2运行温低，用水量非常小。

·用户可轻松设定氮净化水平，应用于清洁环境无须净化。 

典型应用工艺：

·ADP 122 LM, ADS 602 LM 

真空进片室，传送室，物理气相沉淀，镀膜

·ADP 122 P, ADS 602 P, ADS 1202 P, ADS 1802 P

灰化，玻璃拆封，电介质，线蚀刻，注入源，介质化学气相沉淀

·ADS 602 H, ADS 1202 H, ADS 1802 H

等离子增强化学气相淀积，低压化学气相沉淀