易金新材 二碲化钼靶材Ф25.4*3.175mm

溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。

公司是一家真空蒸镀与磁控溅射应用材料解决方案提供商。专业致力于技术研发生产和销售高纯金属蒸镀材料：低功函数金属材料金属镱Yb、镁、银;磁控溅射靶材：铜靶、钼靶、铝靶、钨靶；稀土高纯金属材料及半导体高纯化合物等高性能材料；产品被应用于OLED柔性显示、TFT-LCD液晶显示、集成半导体、晶圆、光学镀膜、光纤通讯、新能源锂电池、航空航天等光电子领域。 公司总建筑面积超过2万平米，建立了材料研发中心、检测实验室、并引进美国真空中频感应熔炼炉，真空蒸馏炉、冷坩埚悬浮熔炼炉，真空烧结炉，单晶炉，等各种材料精密加工专业生产设备；有力保证品质稳定和技术优先；易金新材多年来凭借高度的责任感，求真务实的态度，快速反应的服务能力和完善的管理体系，赢得了全球大型OLED、TFT-LCD液晶显示生产商以及众多知名光学光电子企业的认可，并建立良好的战略合作关系。