二氧化铪是一种无机物,化学式为HfO2,是铪元素的一种氧化物,常温常压下为白色固体,难溶于水,不溶于盐酸和硝酸,可溶于浓硫酸和氢氟酸。
二氧化铪(HfO₂)是一种具有宽带隙和高介电常数的陶瓷材料,近来在工业界特别是微电子领域被引起极度的关注,由于它可能替代硅基集成电路的核心器件金属氧化物半导体场效应管(MOSFET)的栅极绝缘层二氧化硅(SiO₂),以解决MOSFET中传统SiO₂/Si结构的发展的尺寸极限问题。
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更新日期2023-05-20 15:57
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二氧化铪是一种无机物,化学式为HfO2,是铪元素的一种氧化物,常温常压下为白色固体,难溶于水,不溶于盐酸和硝酸,可溶于浓硫酸和氢氟酸。
二氧化铪(HfO₂)是一种具有宽带隙和高介电常数的陶瓷材料,近来在工业界特别是微电子领域被引起极度的关注,由于它可能替代硅基集成电路的核心器件金属氧化物半导体场效应管(MOSFET)的栅极绝缘层二氧化硅(SiO₂),以解决MOSFET中传统SiO₂/Si结构的发展的尺寸极限问题。
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