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碘发生器

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产品品牌亿科

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更新日期2026-03-03 13:12

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商品信息

基本参数
起订: 未填
供货总量: 未填
有效期至: 长期有效
气体流量: 0.5~10L/min
反应温度: 30-150℃
温度精度: ±1℃
碘蒸汽纯度: 99.95%
浓度波动: <±2%
控制系统: PID
详细说明

Description

产品简介

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亿科碘发生器



精确控制 稳定可靠 软启动 重复性好

碘发生器作为新一代挥发性碘素(VOC)制备设备,专为环保工程、科研机构等设计,通过创新技术将固态碘单质高效转化为可控碘蒸汽,实现气体流量(0.5-10L/min)与反应温度(30-150℃,±1℃)的双参数精准调控,为单质碘应用提供安全稳定的气源解决方案。



碘发生器采用梯度热升华耦合气态分流技术,在密闭聚四氟反应腔内通过多级加热模块将碘晶体逐步升华,配合PID温控系统确保碘蒸汽生成速率恒定;独创的双通道质量流量控制器(MFC)可实时监测并调节输出气体浓度,使碘蒸汽纯度高达99.95%,彻底避免杂质颗粒污染。相较于传统碘熏蒸设备,碘发生器通过物联网智能中控系统,实现远程启停、工艺配方存储(预置8种行业标准模式)及异常状态预警,运维效率提升60%。


   

Advantage

技术优越性

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精准可控的气态转化技术

为梯度热升华工艺:采用多级分区加热模块(30-150℃±0.5℃),实现碘晶体从固态到气态的无损相变,升华效率提升85%,避免传统高温直烧导致的碘分解(杂质率<0.05%)。

双通道质量流量控制(MFC):通过高精度传感器(±0.1L/min)与PID算法动态调节气体流量(0.5-10L/min可调),输出浓度波动范围≤±2%,满足催化剂评价、气体吸附等场景的严苛工艺要求。


智能化运营管理系统


物联网集成中控:7英寸触摸屏支持8组预设工艺模式,兼容Modbus协议,可接入实验室DCS系统实现远程监控与数据追溯。

自适应反馈机制:实时监测环境温湿度、气压变化,自动补偿气体输出参数,稳定性较传统设备提高70%。

安全防护体系


泄露双保险:聚四氟反应腔+双层不锈钢外壳,内置负压回收装置(响应时间<0.5秒);

能源互锁控制:温度、流量任一异常时,0.2秒内切断电源并启动应急冷却;

多场景拓展功能

并联扩容技术:支持4台机组并联运行,流量上限扩展至40L/min,适配大型试验需求;

定制化兼容设计:可选配防爆外壳、车载抗震框架或超纯气路(316L级不锈钢),覆盖半导体、军 工等特殊领域。


Product feature

产品特点

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  • 自制研发气化模块小巧,完全避免了传统加热炉汽化电
  • 转化效率低、不稳定、不完全汽化等问题
  • 采用特殊气化结构,大幅抑制汽化不均匀而导致的脉动
  • 通过仪表(触摸屏)控制,实现流量可调、温度可控    
  • 产品内部器件采用全SUS304/316L材质,耐高温耐腐蚀
  • 湿度平稳连续,波动小且精确度高
  •  蒸汽出口采用加热保温装置,不会冷凝
  • 数据可读取可储存,支持其它设备远程控制
  • 高精准度,可集成     
  • 可客户实际要求进行定制    
  • 寿命长





Product stucture

产品结构

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  • PLC触摸屏控制(可定制仪表),让控制精度更高,浓度波动更小


操作过程更加简单和快捷,改变传统按钮操作功能,走向智能化;

它可以用来设置参数,显示数据,监控设备状态,以曲线/动画等形式描绘工艺控制过程;

植入控制算法软件,精度更高,浓度波动更小;

可以支持MODBU通信协议,包括主机从机模式,可以组网多个一体机使用灵活,可以按客户要求定制。


  • 精准PID算法

PID控制主要是通过微处理器来比较给定的温度设定值和传感器反馈回来的实际温度值,在气化的过程中,消耗能量及温度会实时变化,PID精准算法会拟合周期的能量及温度变化规律,形成精准的控制方式,从而达到完整的气化,保证输出浓度精准稳定。


  • 一体压铸微通道汽化器    


微通道结构换热效果更快,能快速补充相变所需热量,液体进入通道能快速形成纳米液膜气化波动小。


质量流量计控制流量 (按需选配) 

流量控制精度达到1.5%,较传统的转子流量计精度(+/-3%以上)高出很多,确保混合气体输出浓度波动小,精度高。


  • 精密恒流泵


精密恒流泵精度达±1%,压力可达到0.6Mpa,确保气体输出浓度波动小、精度高;

各种连接方式,易于安装与使用;

输出方式灵活,既可以通过通迅接口主动上传数据,也可通过模拟接口输出线性的模拟电压;

全量程高稳定性,高精度和优良的重复性。


More types

更多选型

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型号说明

 




Cooperation units

合作单位

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